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英特尔晶圆成为首家采用ASML High-NA （EUV）光刻技术制造并发货大量逻辑产品的芯片制造商，标志着下一代芯片制造技术商业化的重要一步。 
这一里程碑适用于代号为Panther Lake的英特尔Core Ultra系列3处理器子集，该处理器基于该公司的Intel 18A工艺节点构建。英特尔表示，特定Intel 18A层现已在ASML俄勒冈工厂的 High-NA EUV平台上实现双重认证，产品向客户发货时，良率与现有NXE平台相当。 
英特尔和ASML表示，该技术正在部分芯片层上使用，以收集制造数据，进一步优化系统设置、运行时间和生产实施，为未来工艺节点的更广泛部署做准备。 
High-NA EUV是EUV光刻的下一阶段，提供更高分辨率和更完善的工艺控制，用于设计越来越小的芯片特征。该技术预计将帮助半导体制造商制造更密集、更复杂的芯片，同时支持未来计算和人...